化工厂污水的基本特点有:(1) 废水色度高。 (2) 废水中污染物含量高,这是由于原料反应不完全和原料、或生产中使用的大量溶剂介质进入了废水体系所引起的;(3) 生物难降解物质多,B/C比低,可生化性差; (4) 有毒有害物质多,精细化工污水中有许多有机污染物对微生物是有毒有害的,如卤素化合物、硝基化合物、具有杀菌作用的分散剂或表面活性剂等; (5) 水质成分复杂,副产物多,反应原料常为溶剂类物质或环状结构的化合物,化工厂污水处理常用技术,离子交换法,生物法,离子交换法,吸附法等多样组合工艺处理
了解更多半导体工业废水主要包括两部分:硅圆片切割及研磨的废水及半导体器件 封装外壳的电镀废水。其中半导体器件封装外壳的电镀废水主要是指半导体集 成电路器件封装外壳的电镀废水以及半导体分立器件封装外壳的电镀废水,即 在所述封装外壳的金属零部件上分层电镀起导电及防腐作用的金属层时产生 的废水,其中的污染物主要是酸和碱及锡、铅、铜、镍等金属离子,以及有机 物和有机络合物等;其中的硅圆片切割及研磨的废水产生于硅圆片的切割研磨 工序中,其中含有大量的亚微米级硅颗粒、数十纳米以下的金刚砂磨料颗粒及 清洗剂。电镀采用采用化学还
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